Chiodo, S., Kaiser, D., Shah, J. und Volonté, P. (Hrsg.) (2024) Improving Technology Through Ethics [cd]. 1 st ed. 2024, Poli MI Springer Briefs. 1 st ed. 2024. Cham: Springer Nature Switzerland. doi:10.1007/978-3-031-52962-7.
Chicago Manual of Style 17th edition (full note)Chiodo, Simona, David Kaiser, Julie Shah, und Paolo Volonté, Hrsg. Improving Technology Through Ethics. Cd. Poli MI Springer Briefs. 1 st ed. 2024. Cham: Springer Nature Switzerland, [2024?], Cham: Springer Nature Switzerland, [2024?]. https://doi.org/10.1007/978-3-031-52962-7.
American Psychological Association 7th editionImproving Technology Through Ethics. (ca. 2024). [Cd]. In S. Chiodo, D. Kaiser, J. Shah, & P. Volonté (Hrsg.), Poli MI Springer Briefs (1 st ed. 2024). Springer Nature Switzerland. https://doi.org/10.1007/978-3-031-52962-7
Modern Language Association 9th editionChiodo, S., D. Kaiser, J. Shah, und P. Volonté, Herausgeber. „Improving Technology Through Ethics“. Poli MI Springer Briefs, 1 st ed. 2024, cd, Springer Nature Switzerland, 2024, https://doi.org/10.1007/978-3-031-52962-7.
ISO-690 (author-date, Deutsch)CHIODO, Simona, David KAISER, Julie SHAH und Paolo VOLONTÉ (Hrsg.). 1 st ed. 2024. Cham: Springer Nature Switzerland. ISBN 9783031529627